메뉴바로가기본문바로가기

동아사이언스

반도체 집적도 나노미터급으로 높인다

통합검색

반도체 집적도 나노미터급으로 높인다

2010.09.29 00:00
반도체의 집적도를 높일 수 있는 공정 기술이 개발됐다. 교육과학기술부는 29일 포스텍 포항가속기연구소 황찬국 책임연구원이 ‘펜타센 나노패턴’ 기술을 개발해 30nm(나노미터, 1nm=10억 분의 1m) 급의 반도체 패턴을 만드는데 성공했다고 밝혔다. 황 연구원은 자외선과 x선 사이의 파장을 가진 극자외선을 이용했다. 펜타센은 벤젠 분자 5개가 모인 화합물로 극자외선에 노출되면 서로 결합하는 특성이 있다. 황 연구원은 진공상태에서 펜타센 분자막을 성장시킨 뒤 극자외선을 원하는 패턴으로 쪼였다. 극자외선을 쬔 펜타센 분자는 서로 결합됐고 쬐지 못한 부분이 떨어져나가자 반도체 패턴이 남았다. 황 연구원은 “펜타센 나노패턴 기술은 패턴의 폭과 너비를 조절할 수 있어 10nm 크기의 패턴 제작도 가능할 것”이라며 “집적도와 효율이 높은 반도체 생산에 응용될 수 있을 것으로 기대된다”고 밝혔다.

태그

이 기사가 괜찮으셨나요? 메일로 더 많은 기사를 받아보세요!

이 기사어떠셨어요?

댓글 0

7 + 10 = 새로고침
###
    과학기술과 관련된 분야에서 소개할 만한 재미있는 이야기, 고발 소재 등이 있으면 주저하지 마시고, 알려주세요. 제보하기