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원자 한층 두께 전자회로 나온다

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2018년 10월 12일 18:27 프린트하기

연세대 연구진은 그래핀을 활용한 2차원 구조의 에칭 기술을 개발했다. 연세대 제공.
연세대 연구진은 그래핀을 활용한 2차원 구조의 에칭 기술을 개발했다. 연세대 제공.

국내 연구진이 수 나노미터(㎚·10억분의 1m)두께로 전자회로를 생성하는 기술을 개발했다. 몸에 부착하는 초소형 전자기기나 극도로 얇은 디스플레이 등 다양한 분야에 응용될 것이라는 기대가 나온다.


연세대 신소재공학과 이관형 교수와 미국 일리노이대 아렌드 반 더 잔데 교수는 2차원 소재로 알려진 그래핀을 이용해 초정밀 전자회로를 만드는데 성공했다고 12일 밝혔다. 원자 두께의 얇은 육각형 탄소 덩어리인 그래핀은 첨단 전자회로를 만드는데 사용될 차세대 소재로 평가되지만 그 위에 전자회로를 그리는 방법을 찾기 어려웠다.

 

연구진은 반응성이 매우 좋은 이불화 제논가스(XeF2)를 이용하면 손상없이 그래핀 위에 선택적으로 에칭이 가능하다는 사실을 알아내고 각종 회로를 그리는 에칭(식각) 공정을 처음으로 개발했다. 원자 단위의 정밀도를 가지면서 완벽한 선택적 에칭이 가능하기 때문에 그래핀으로 전자회로를 만들 수 있다.
 
연구팀은 이 현상을 이용해 그래핀으로 반도체 회로를 만들 수 있는 소자를 만들어내는데도 성공했다. 이 기술이 앞으로 그래핀을 전자회로로 만드는 필수 기술로서 활용될 것으로 기대하고 있다. 연구팀은 “그래핀의 새로운 물리적 현상 관측을 위한 소자 제작에도 큰 역할을 할 수 있을 것으로 예상된다”고 밝혔다.
 
이 연구는 국제학술지 네이처 커뮤니케이션즈에 9월 29일 게재됐다.

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