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日, “반도체·디스플레이 공정 핵심 물질 한국 수출 허가 면제 종료”

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日, “반도체·디스플레이 공정 핵심 물질 한국 수출 허가 면제 종료”

2019.06.30 17:24
동아사이언스 자료사진
동아사이언스 자료사진

일본 정부가 디스플레이와 반도체 등을 제작할 때 반드시 필요한 물질 3종에 대해 기존에 한국을 대상으로 유지해 오던 허가 절차 면제 정책을 7월부터 적용하지 않기로 했다. 심사 기간이 최대 3개월까지 늘어날 것으로 예상돼 국내 반도체 생산에 영향을 미칠지도 모른다는 우려도 있지만, 단지 심사 절차가 복잡해지고 기간이 길어질 뿐 여파는 제한적이라는 예상도 있다.


30일 일본 산케이신문에 따르면, 일본 정부는 텔레비전이나 스마트폰 등의 디스플레이 부품에 필수적으로 들어가는 기판 소재인 ‘플루오린 폴리이미드’와, 반도체 제조 공정에 필요한 ‘포토레지스트(감광제)’, ‘에칭가스(플루오린화수소, HF)’ 등 3개 품목에 대해 4일부터 한국을 허가 절차 면제 대상국에서 제외하기로 했다.


세 종의 물질은 일본 정부가 지정한 전략물자로 원래는 수출시 건별로 허가를 받아야 한다. 하지만 2004년 일본 정부가 한국을 이들 첨단재료의 수출에 관한 허가 신청 면제국으로 지정한 이래 절차가 대폭 간소화돼 지금에 이르고 있다. 산케이에 따르면 일본 정부가 이렇게 수출 허가 신청 면제국으로 지정한 나라는 27개국이다.


이번에 면제국에서 이탈하게 되면, 일본 기업은 세 종의 물질을 한국에 수출할 때 약 90일이 걸리는 당국의 허가 심사를 계약 건별로 받아야 한다. 일각에서는 지금까지 빠르게 처리되던 수출입이 90일까지 지연되면서 이들 물질의 수급도 늦어지고, 디스플레이나 반도체 공정 등에 차질이 빚어질 가능성을 제기하기도 한다. 현재 플루오린 폴리이미드는 국내 제작 기업이 없는 것으로 알려져 있고, 포토 레지스트와 에칭가스는 제작 가능한 국내 기업이 있지만 대일 수입 의존도가 크다.


하지만 영향이 제한적이라는 전망도 나온다. 황철성 서울대 재료공학부 교수(전 서울대 반도체공동연구소장)는 “포토레지스트와 에칭가스는 국내에 제작이 업체가 있어 90일 정도의 지연에는 충분히 대처가 가능할 것으로 본다”며 “특히 플루오린화수소의 경우 일본 업체의 생산량 대부분을 한국기업이 수입하고 있는 만큼 일본 정부 입장에서도 차질을 빚게 놔두지 못할 것”이라고 전망했다.


●디스플레이 기판 소재, 반도체 감광, 식각 물질…일부는 국내에서도 제작 가능


이번에 문제가 된 세 종의 물질 가운데 플루오린 폴리이미드는 최극 각광 받는 휘어지는 디스플레이 기판을 제작할 때 반드시 필요한 플라스틱 소재다. 잘 휘면서도 복원력이 좋고 충격과 열에 강한 기판인 폴리이미드에 플루오린(불소)을 추가해 기계적 물성을 개선했다. 한국에서도 접는 휴대폰 등을 제작할 때 사용해 왔으나, 한국에서는 제작 기술이 없어 전량 수입하고 있다.


포토레지스트는 반도체 웨이퍼 위 실리콘에 미세한 패턴을 그리는 데에 사용된다. 실리콘에 직접 미세한 패턴을 그리기 어렵기 때문에 먼저 포토레지스트를 위에 코팅한 뒤 그 위에 빛을 쪼이는 ‘노광’ 공정을 통해 포토레지스트에 패턴을 그린다. 이 작업을 거치면 원하는 패턴 부위에만 마치 골무처럼 포토 레지스트가 남는다. 이후 식각(에칭) 공정을 통해 포토레지트스가 없는 나머지 부분의 실리콘을 제거하고, 마지막으로 ‘골무’였던 포토 레지스트를 제거하면 원하는 패턴만 남길 수 있다. 동진쎄미켐 등 한국에도 제작할 수 있는 기업이 있다.


에칭가스(플루오린화수소)는 식각 공정에서 패턴 외의 불필요한 실리콘을 녹여 제거하는 물질이다. 식각 공정 뒤에 찌꺼기를 제거하는 클리닝 공정에도 사용된다. 중국에서 수입한 형석을 가공해 얻는다. 한국에도 생산 공장이 있지만 전체의 70%를 일본으로부터 수입하고 있다. 
 

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