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국가핵융합연구소는 플라즈마 기술을 이전한 중소기업 세원하드페이싱이 플라즈마 기술을 활용해 전량 일본 수입에 의존하던 반도체 코팅 소재 국산화에 성공했다고 29일 밝혔다. 핵융합연은 지난 2017년 세원하드페이싱에 용사코팅용 재료 분말의 유동성을 향상시킬 수 있는 플라즈마 기술을 이전하고 제품 개발을 위한 협력을 진행했다. 그 결과 핵융합연과 세원하드페이싱은 미세 분말 상태에서도 응집되지 않는 용사코팅 소재인 ‘이트륨옥사이드’를 국내 최초로 개발하는 데 성공했다. 이트륨옥사이드는 대표적인 반도체 공정 장비...

기계硏, 고효율 반도체공정 배기가스 처리장치 개발 국내 연구진이 반도체 생산 공정에서 나오는 온실가스와 미세먼지를 동시에 잡을 수 있는 기술을 개발했다. 반도체 공정의 오염물질 처리 설비 규모를 30% 줄일 수 있어 비용 절감은 물론이고 생산 효율도 높일 수 있을 것으로 기대를 모은다. 김용진 한국기계연구원 환경기계연구본부 책임연구원 연구팀은 반도체 생산 공정에서 발생하는 온실가스와 미세먼지 등 유해물질을 간편하게 줄여 주는 정전 방식의 가스·먼지 통합형 배기가스 저감장치를 개발했다고 25일 밝혔다. 김 연구원은 &l...