동아사이언스

국내 연구진이 반도체 칩이나 광전소자를 만들 때 사용하는 나노패터닝 기술을 한 차원 높인 기술을 선보였다. 한국과학기술연구원(KIST) 광전하이브리드연구센터 손정곤 책임연구원과 오진우 박사후연구원팀은 아주 손쉽고 간단하면서도 다양한 종류와 모양의 블록공중합체에 쓸 수 있는 10nm(나노미터·10억분의 1m)이하 초미세 나노패턴 제작 기술을 개발했다고 21일 밝혔다. 블록공중합체란 고분자 두 개 이상이 다른 고분자 사슬에 규칙적으로 연결된 고분자다. 반도체 전문가들은 최근 10nm 수준으로 초미세 패턴을 제작하는 방법에 관...